硅鋼片 來(lái)歷1900年英國(guó)哈德菲爾德（R.A.Hadfield）等首先發(fā)現(xiàn)含Si4%的Si-Fe合金有良好磁性。1903年德國(guó)和美國(guó)相繼生產(chǎn)含Si1.0～4.5%的熱軋硅鋼片。1906年代替低碳鋼用來(lái)制造電機(jī)和變壓器鐵芯。1934年美國(guó)戈斯(N.P.Goss）采用兩次冷軋法制成 （110）[001]晶粒擇優(yōu)取向的含 Si3%的冷軋硅鋼片。1968年日本田口悟等采用硫化錳和氮化鋁綜合抑制劑并使用一次大壓下率冷軋法，制成（110）[001]高磁感取向硅鋼，這種材料的晶粒取向更加準(zhǔn)確，鐵損和磁性進(jìn)一步改善。歷年來(lái)，硅鋼的鐵損值下降示意曲線見(jiàn)圖1。硅鋼片生產(chǎn)模具中國(guó)于1953年開(kāi)始生產(chǎn)熱軋低硅硅鋼片（Si1～2%）；1955年開(kāi)始生產(chǎn)熱軋高硅硅鋼片(Si3.0～4.5%）；1962年開(kāi)始生產(chǎn)冷軋取向薄硅鋼帶。70年代開(kāi)始生產(chǎn)冷軋取向硅鋼帶。

遼寧《M310-50A硅鋼片性能及用途》

M310-50A【變量1】M310-50A【變量2】

硅鋼片冷軋無(wú)取向硅鋼片是將鋼坯或連鑄坯熱軋成厚度約2.3mm帶卷。制造低硅產(chǎn)品時(shí)，熱軋帶卷酸洗后一次冷軋到 0.5mm厚。制造高硅產(chǎn)品時(shí)，熱軋帶酸洗后（或先經(jīng)800～850℃?；笤偎嵯矗?，冷軋到0.55或0.37mm厚，在氫氮混合氣氛連續(xù)爐中850℃退火，再經(jīng)6～10%小壓下率冷軋到0.50或0.35mm厚。這個(gè)小壓下率的冷軋可使退火時(shí)晶粒長(zhǎng)大，鐵損降低。這兩種冷軋板都在20%氫氮混合氣氛下連續(xù)爐中850℃最終退火，然后涂磷酸鹽加鉻酸鹽的絕緣膜。晶粒取向硅鋼一般都含Si3%，要求鋼中氧化物夾雜含量低，并必須含有C0.03～0.05%和抑制劑（第二相彌散質(zhì)點(diǎn)或晶界偏析元素）。抑制劑的作用是阻止初次再結(jié)晶晶粒長(zhǎng)大和促進(jìn)二次再結(jié)晶的發(fā)展，從而獲得高的（110）[001]取向。抑制劑本身對(duì)磁性有害，所以在完成抑制作用后，須經(jīng)高溫凈化退火。采用第二相抑制劑時(shí)，板坯加熱溫度必須提高到使原來(lái)粗大第二相質(zhì)點(diǎn)固溶，隨后熱軋或?；瘯r(shí)再以細(xì)小質(zhì)點(diǎn)析出，以便增強(qiáng)抑制作用。冷軋成品厚度為0.28、0.30或0.35mm，工藝要點(diǎn)見(jiàn)表3。冷軋取向薄硅鋼帶是將0.30或0.35mm厚的取向硅鋼帶，再經(jīng)酸洗、冷軋和退火制成\1949年美國(guó)制成厚度小于 0.1mm的冷軋（110）[001]取向薄硅鋼帶，用于電子工業(yè)。1957年聯(lián)邦德國(guó)制成了（100）[001]立方取向硅鋼片，其縱橫向磁性都高，但因工藝復(fù)雜，至今未正式生產(chǎn)。圖2是（110）[001]和（100）[001]取向硅鋼片中晶粒排列示意圖。含硅6.5%的Si-Fe合金的磁致伸縮約為零，磁導(dǎo)率高、鐵損低、制成的變壓器無(wú)噪聲但因加工困難，未得到廣泛應(yīng)用。70年代采用液態(tài)快冷技術(shù)制成6.5Si-Fe微晶薄帶，研制了更薄的取向硅鋼片和（100）面織構(gòu)（晶間無(wú)取向）的硅鋼片等新品種。對(duì)硅鋼性能的要求 主要是：①鐵損低，這是硅鋼片質(zhì)量的最重要指標(biāo)。各國(guó)都根據(jù)鐵損值劃分牌號(hào)，鐵損愈低，牌號(hào)愈高。②較強(qiáng)磁場(chǎng)下磁感應(yīng)強(qiáng)度（磁感）高，這使電機(jī)和變壓器的鐵芯體積與重量減小，節(jié)約硅鋼片、銅線和絕緣材料等。③表面光滑、平整和厚度均勻，可以提高鐵芯的填充系數(shù)。④沖片性好，對(duì)制造微型、小型電動(dòng)機(jī)更為重要。⑤表面絕緣膜的附著性和焊接性良好，能防蝕和改善沖片性。⑥基本無(wú)磁時(shí)效。典型電磁性能見(jiàn)表1。

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