硅鋼片冷軋無(wú)取向硅鋼片是將鋼坯或連鑄坯熱軋成厚度約2.3mm帶卷。制造低硅產(chǎn)品時(shí)，熱軋帶卷酸洗后一次冷軋到 0.5mm厚。制造高硅產(chǎn)品時(shí)，熱軋帶酸洗后（或先經(jīng)800～850℃?；笤偎嵯矗?，冷軋到0.55或0.37mm厚，在氫氮混合氣氛連續(xù)爐中850℃退火，再經(jīng)6～10%小壓下率冷軋到0.50或0.35mm厚。這個(gè)小壓下率的冷軋可使退火時(shí)晶粒長(zhǎng)大，鐵損降低。這兩種冷軋板都在20%氫氮混合氣氛下連續(xù)爐中850℃最終退火，然后涂磷酸鹽加鉻酸鹽的絕緣膜。晶粒取向硅鋼一般都含Si3%，要求鋼中氧化物夾雜含量低，并必須含有C0.03～0.05%和抑制劑（第二相彌散質(zhì)點(diǎn)或晶界偏析元素）。抑制劑的作用是阻止初次再結(jié)晶晶粒長(zhǎng)大和促進(jìn)二次再結(jié)晶的發(fā)展，從而獲得高的（110）[001]取向。抑制劑本身對(duì)磁性有害，所以在完成抑制作用后，須經(jīng)高溫凈化退火。采用第二相抑制劑時(shí)，板坯加熱溫度必須提高到使原來(lái)粗大第二相質(zhì)點(diǎn)固溶，隨后熱軋或?；瘯r(shí)再以細(xì)小質(zhì)點(diǎn)析出，以便增強(qiáng)抑制作用。冷軋成品厚度為0.28、0.30或0.35mm，工藝要點(diǎn)見(jiàn)表3。冷軋取向薄硅鋼帶是將0.30或0.35mm厚的取向硅鋼帶，再經(jīng)酸洗、冷軋和退火制成\硅鋼主要用氧氣轉(zhuǎn)爐冶煉（也可用電弧爐冶煉），配合鋼水真空處理和AOD技術(shù)（見(jiàn)爐外精煉，采用模鑄或連鑄法。根據(jù)不同的用途，冶煉時(shí)改變硅（0.5～4.5%）和鋁（0.2～0.5%）含量以滿(mǎn)足不同磁性的要求。高牌號(hào)硅鋼片的硅和鋁量相應(yīng)提高。碳、硫和夾雜物盡量減少。1949年美國(guó)制成厚度小于 0.1mm的冷軋（110）[001]取向薄硅鋼帶，用于電子工業(yè)。1957年聯(lián)邦德國(guó)制成了（100）[001]立方取向硅鋼片，其縱橫向磁性都高，但因工藝復(fù)雜，至今未正式生產(chǎn)。圖2是（110）[001]和（100）[001]取向硅鋼片中晶粒排列示意圖。含硅6.5%的Si-Fe合金的磁致伸縮約為零，磁導(dǎo)率高、鐵損低、制成的變壓器無(wú)噪聲但因加工困難，未得到廣泛應(yīng)用。70年代采用液態(tài)快冷技術(shù)制成6.5Si-Fe微晶薄帶，研制了更薄的取向硅鋼片和（100）面織構(gòu)（晶間無(wú)取向）的硅鋼片等新品種。

《DW250－35（W09）》硅鋼片規(guī)格從0.08-3.5均有現(xiàn)貨

DW250－35（W09）【變量1】DW250－35（W09）【變量2】

硅鋼片，英文名稱(chēng)是siliconlamination，它是一種含碳極低的硅鐵軟磁合金，一般含硅量為0.5～4.5%。加入硅可提高鐵的電阻率和最大磁導(dǎo)率，降低矯頑力、鐵芯損耗（鐵損）和磁時(shí)效。硅鋼片的生產(chǎn)由于工藝復(fù)雜、工藝窗口窄，生產(chǎn)難度大，被譽(yù)為鋼鐵產(chǎn)品中的工藝品，特別是取向硅鋼片。見(jiàn)圖用途主要用來(lái)制作各種變壓器、電動(dòng)機(jī)和發(fā)電機(jī)的鐵芯。世界硅鋼片產(chǎn)量約占鋼材總量的1%（見(jiàn)精密合金）。硅鋼的軋制分為熱軋和冷軋兩個(gè)工序，傳統(tǒng)的采用熱軋直接生產(chǎn)硅鋼成品的工藝目前已經(jīng)很少采用，主要為熱軋和冷軋兩個(gè)工序來(lái)生產(chǎn)，稱(chēng)為冷軋硅鋼產(chǎn)品。根據(jù)產(chǎn)品不同，冷軋工序分為多機(jī)架軋機(jī)軋制和單機(jī)架軋制，其中單機(jī)架軋制主要生產(chǎn)取向硅鋼產(chǎn)品。冷軋無(wú)取向硅鋼片是將鋼坯或連鑄坯熱軋成厚度約2.3mm帶卷。制造低硅產(chǎn)品時(shí)，熱軋帶卷酸洗后一次冷軋到0.5mm厚。制造高硅產(chǎn)品時(shí)，熱軋帶酸洗后（或先經(jīng)800～850℃常化后再酸洗），冷軋到0.55或0.37mm厚，在氫氮混合氣氛連續(xù)爐中850℃退火，再經(jīng)6～10%小壓下率冷軋到0.50或0.35mm厚。這個(gè)小壓下率的冷軋可使退火時(shí)晶粒長(zhǎng)大，鐵損降低。這兩種冷軋板都在20%氫氮混合氣氛下連續(xù)爐中850℃最終退火，然后涂磷酸鹽加鉻酸鹽的絕緣膜。晶粒取向硅鋼一般都含Si3%，要求鋼中氧化物夾雜含量低，并必須含有硅鋼片生產(chǎn)模具中國(guó)于1953年開(kāi)始生產(chǎn)熱軋低硅硅鋼片（Si1～2%）；1955年開(kāi)始生產(chǎn)熱軋高硅硅鋼片(Si3.0～4.5%）；1962年開(kāi)始生產(chǎn)冷軋取向薄硅鋼帶。70年代開(kāi)始生產(chǎn)冷軋取向硅鋼帶。1949年美國(guó)制成厚度小于0.1mm的冷軋（110）[001]取向薄硅鋼帶，用于電子工業(yè)。1957年聯(lián)邦德國(guó)制成了（100）[001]立方取向硅鋼片，其縱橫向磁性都高，但因工藝復(fù)雜，至今未正式生產(chǎn)。圖2是（110）[001]和（100）[001]取向硅鋼片中晶粒排列示意圖。含硅6.5%的Si-Fe合金的磁致伸縮約為零，磁導(dǎo)率高、鐵損低、制成的變壓器無(wú)噪聲但因加工困難，未得到廣泛應(yīng)用。70年代采用液態(tài)快冷技術(shù)制成6.5Si-Fe微晶薄帶，研制了更薄的取向硅鋼片和（100）面織構(gòu)（晶間無(wú)取向）的硅鋼片等新品種

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