科研實(shí)驗(yàn)專用三氧化鉬靶材MoO3磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

三氧化鉬（MoO3）一般為白色至灰色，墨綠色，微溶于水，溶于濃硝酸、濃鹽酸，易溶于濃堿；熔點(diǎn)：795℃，沸點(diǎn)：1155℃；加熱時(shí)變黃色，冷時(shí)即復(fù)原；即使在低于熔點(diǎn)情況下，也有顯著的升華現(xiàn)象；與堿溶液和許多金屬氧化物反應(yīng)生成鉬酸鹽和多鉬酸鹽。用作制取金屬鉬及鉬化合物的原料；石油工業(yè)中用作催化劑；還可用于搪瓷釉藥顏料及藥物等；可作為添加型阻燃劑，具有阻燃和抑煙雙重功能，與其他阻燃劑復(fù)配可降低成本，提高阻燃性，減小發(fā)煙量。

產(chǎn)品參數(shù)
中文名 三氧化鉬          化學(xué)式 MoO3            分子量 144
熔點(diǎn) 795℃                  沸點(diǎn) 1155℃              密度 4.69g/cm3
支持靶材定制，請(qǐng)?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會(huì)盡快為您報(bào)價(jià)！！ 
服務(wù)項(xiàng)目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊睿|(zhì)量保證，售后無憂！
產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 
質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測→包裝出庫
       陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
       注意：高純銦的熔點(diǎn)約為156℃，靶材工作溫度超過熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
       建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。