科研實(shí)驗(yàn)專用釓靶材Gd氧化釓靶材Gd2O3磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

釓（Gd）為銀白色金屬，有延展性，在室溫下有磁性，在干燥空氣中比較穩(wěn)定，在濕空氣中失去光澤。在醫(yī)療、工業(yè)、核能等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用 。

產(chǎn)品參數(shù)
中文名 釓          元素符號(hào) Gd           分子量 157.25
熔點(diǎn) 1311.0 ℃ 沸點(diǎn) 3233.0 ℃        密度  7901kg/m3
產(chǎn)品介紹

氧化釓（Gd2O3）不溶于水，溶于酸生成對(duì)應(yīng)的鹽，露置于空氣中時(shí)，易吸收空氣中的水和二氧化碳而變質(zhì)；能與氨作用，生成釓的水合物沉淀。用作釔鋁和釔鐵石榴石摻入劑、醫(yī)療器械中的增感熒光材料、核反應(yīng)堆控制材料、金屬釓的制取原料、制磁泡材料和光學(xué)棱鏡添加劑等。

產(chǎn)品參數(shù)

中文名 氧化釓             分子式 Gd2O3           分子量 362.4982
沸點(diǎn) 3900℃               熔點(diǎn) 2339℃               密度 7.407g/cm3
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產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器：多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備
質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測(cè)手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測(cè)→包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
注意：高純銦的熔點(diǎn)約為156℃，靶材工作溫度超過熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。